Wir suchen einen erfahrenen Führungskraft, der unsere Gruppe Interferometry EUV leitet und unsere Expertise in der Halbleiterlithografie weiterentwickelt.

• Fachliche und disziplinäre Leitung der Gruppe Interferometry EUV mit ca. 8 Mitarbeitenden
• Enge Zusammenarbeit mit allen Stakeholdern, um exzellente Ergebnisse in der Gruppe sicherzustellen
• Planung, Entwicklung und Vorbereitung von Kompetenzen, Kapazitäten und Technologien in der Gruppe
• Pflege von Beziehungen zu externen Entwicklungspartnern und Erweiterung des Partnernetzwerks
• Verantwortung für Prozesse, Arbeitsweisen und Arbeitssicherheit in der Gruppe

• Hoher technischer oder naturwissenschaftlicher Abschluss, gerne mit Promotion
• Mindestens 3 Jahre Berufserfahrung in einem komplexen technischen Umfeld, idealerweise im Bereich von Konzeptionierung, Design und Entwicklung höchstgenauer optischer Messsysteme
• Erfahrung in der disziplinären oder fachlichen Führung von Mitarbeitenden und Teams
• Hohe Eigeninitiative, Verantwortungsbereitschaft und Fähigkeit, Veränderungen erfolgreich umzusetzen
• Ausgeprägte Kundenorientierung verbunden mit unternehmerischem Denken und Handeln
• Verhandlungssichere Kommunikation auf Deutsch und Englisch in Wort und Schrift

ZEISS ist ein führender Anbieter von Technologien für die Halbleiterindustrie. Wir entwickeln innovative Lösungen für die Herstellung von Mikrochips und anderen elektronischen Komponenten.