Ihre Aufgaben

• Sie arbeiten in einem dynamischen, interdisziplinären Team und analysieren komplexe Fragestellungen zur Stabilität von (EUV)-Schichten durch verschiedene analytische Methoden.
• Durch präzise wissenschaftliche Untersuchungen identifizieren Sie Wechselwirkungen an Grenzflächen im Sub-Nanometer-Bereich und entwickeln Strategien zur Optimierung der Schichtsysteme.
• Sie setzen Ihre Ideen in Zusammenarbeit mit internen und externen Partnern um und gestalten die Weiterentwicklung von (EUV)-Schichten entsprechend zukünftiger Anforderungen.
• Als kompetente Ansprechperson unterstützen Sie die Produktion bei Fragen zur Lebensdauer und Toleranzen.

Ihr Profil

• Sie verfügen über ein abgeschlossenes Studium in den Natur- oder Ingenieurwissenschaften (z.B. physikalische Chemie, Physik, Materialwissenschaften, Nanotechnologie), idealerweise mit Promotion.
• Sie bringen umfassende Erfahrung in der Analyse von Oberflächen und Schichten mit (z.B. FIB-SEM, XPS, TOF-SIMS, AFM, STM, TEM, XRD).
• Idealerweise haben Sie Kenntnisse in den Bereichen Oberflächenwissenschaft (z.B. heterogene Katalyse, Struktur-Eigenschaftsbeziehungen), Laserbeschädigung von Schichten sowie Beschichtungstechnologien, insbesondere im Ultrahochvakuum.
• Sie zeichnen sich durch Teamgeist, Kreativität und Freude an eigenverantwortlichem Arbeiten sowie durch eine hohe Kommunikationsfähigkeit aus.
• Verhandlungssichere Deutsch- und Englischkenntnisse runden Ihr Profil ab.

Die Stelle kann in Voll- oder Teilzeit besetzt werden.

Ihr ZEISS Recruiting Team:

Oliver Reith