Forschungs- und Entwicklungspraktikant

Stahl ist ein führender Anbieter von Prozesschemikalien für Lederprodukte, Hochleistungsbeschichtungen und Polymere. Wir bieten ein breites Spektrum an Lösungen für die Automobil-, Bekleidungs- & Accessoires-, Wohnungseinrichtungs- und Freizeit- & Lifestyle-Industrie sowie für industrielle Anwendungen. Stahl beschäftigt weltweit über 1.000 Mitarbeiter, die in 23 Ländern in 11 Produktionsstandorten, 9 Entwicklungsstandorten und 38 Laboren tätig sind, und generiert einen geschätzten Jahresumsatz von über 1 Milliarden Euro.

Als Praktikant Forschung und Entwicklung werden Sie an der Synthese und Analyse von Polymerdispersionen (Polyurethan-, Acrylatdispersionen) beteiligt. Sie werden auch an der Entwicklung von marktfähigen Produkten für die Beschichtung flexibler Oberflächen mitwirken. Darüber hinaus werden Sie intensiv mit anderen F&E Abteilungen der Stahl Gruppe zusammenarbeiten. Ihre Aufgaben umfassen auch die Patentüberwachung und Literaturrecherchen.

Wir suchen nach einem engagierten und motivierten Praktikanten, der mindestens im dritten Semester eines Hochschulstudiums mit Schwerpunkt Chemie oder akademisch vergleichbar ist. Sie sollten über den gesamten Zeitraum des Praktikums immatrikuliert sein und aktuelle Bescheinigungen beifügen. Idealerweise verfügen Sie bereits über erste berufliche Erfahrungen durch Praktika oder eine Ausbildung und haben Lust, etwas zu bewegen. Sie sollten ein Teamplayer mit guten kommunikativen Fähigkeiten und einem hohen Maß an Empathie sein. Spaß etwas voranzutreiben, hohe Eigeninitiative und eine lösungsorientierte, strukturierte Arbeitsweise zeichnen Sie aus.

Wir bieten Ihnen die Möglichkeit, Ihre im Studium erworbenen Kenntnisse und Fähigkeiten in einem innovativen Unternehmen zu vertiefen. Sie werden einen eigenen Verantwortungsbereich haben und die Möglichkeit, Ihre Ideen und Vorschläge einzubringen. Wir sind ein nachhaltig agierender Arbeitgeber, der Verantwortung übernimmt und langjährige Erfahrung in der Betreuung von Studenten hat.