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(Teil-)Projektleiter / Sub Function Owner Masken Positionierung (m/w/x)

vor 1 Monat

Jena, Deutschland ZEISS Gruppe Vollzeit

Ihre Rolle

  • Erfassung und Management von Anforderungen an das Positioniersystem mit Nanometergenauigkeit und seine Schnittstellendefinition
  • Mitwirkung bei der Erstellung von Spezifikationsbudgets auf übergeordneten Systemebenen und Schnittstellen
  • ein agiles Entwicklerteam mit aktuell 8 Mitgliedern fachlich steuern und deren Backlog zur Konzeption und Entwicklung von Masken-Positioniersystemen verantworten
  • unterstützt durch Funktionsarchitekten und Scrum Master übernehmen Sie Verantwortung für Ihr Funktionsteam und deren Liefergegenstände
  • Lösungsfindung und -Bewertung sowohl unter technischen als auch wirtschaftlichen Gesichtspunkten
  • agile Steuerung von internen und externen Entwicklungspartnern mit Hilfe von klar definierten KPI
  • Verantworten der Performance-Roadmap für das Positioniersystem, um zukünftige Produktanforderungen zu erfüllen
  • Management taugliches Reporting zum Projektstatus der Funktion und entsprechende Dokumentation der Entwicklungsergebnisse

Ihr Profil

  • ein erfolgreich abgeschlossenes Studium im naturwissenschaftlich-technischen Bereich mit Schwerpunkt Optik/Regelungstechnik/Systemtechnik (Promotion von Vorteil)
  • sehr gute Kenntnisse über Positionierungssysteme, Präzisionsmesstechnik, insbesondere Interferometrie und Regelungstechnik mit Nanometergenauigkeit
  • gute Kenntnisse und erste Berufserfahrung in der Umsetzung anspruchsvoller Entwicklungsaufgaben und im Projektmanagement
  • Erfahrungen in der automatisierten Datenanalyse sowie Matlab- oder Python-Kenntnisse
  • ein hohes Maß an Selbstständigkeit, eine innovative und strukturierte Arbeitsweise sowie die Fähigkeit, komplexe Sachverhalte klar und strukturiert aufzubereiten und zu präsentieren
  • Teamfähigkeit sowie Spaß am Arbeiten in einem global agierenden Team
  • sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift

Your ZEISS Recruiting Team:
Friederike Steindel

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